氧等離子體處理OLED器件ITO基板

文章出處：等離子清洗機(jī)廠家 | 深圳納恩科技有限公司| 發(fā)表時間：2023-05-10

氧等離子處理（Plasma），是等離子表面改性的其中較為常見的一種方式。等離子清洗機(jī)中產(chǎn)生等離子體的結(jié)構(gòu)是兩個平行電極板，在密封的腔體中通電后在兩板之間產(chǎn)生強(qiáng)電場。用真空泵達(dá)到一定的真空度（0.3MPa-1MPa）后，腔體內(nèi)的氣體非常稀薄，氣體分子的間距以及分子或者離子的平均自由運(yùn)動長度將會增大，它們在正負(fù)電場的作用下碰撞形成等離子體。這些高能離子可以打斷化學(xué)鍵，并在直接接觸的樣品表面進(jìn)行化學(xué)反應(yīng)。各種氣體的等離子體具有不同的化學(xué)性質(zhì)，向等離子體處理機(jī)中通純氧后加電壓而形成的等離子體的氧化性能很強(qiáng)，不僅能完成材料表面的氧化，同時還能達(dá)到清洗的目的。

制備OLED 的核心是有機(jī)功能層（包括發(fā)光層、電子傳輸層、空穴傳輸層等）以及電極的制備。

ITO基板處理

實(shí)驗(yàn)室制備OLED器件的流程如圖1.1所示。主要包括ITO基板預(yù)處理、成膜工藝、封裝以及器件性能表征等過程。在本文設(shè)計的結(jié)構(gòu)中，OLED器件是在ITO玻璃襯底上制備的，因而基板與電極（陰極/陽極）是一體的。ITO玻璃片首先在普通洗潔精與水溶液中超聲清洗20分鐘，目的是去除ITO玻璃的表面油污。然后在去離子水清洗下，去除殘留的洗潔精。隨后將ITO玻璃片先后置于去離子水、丙酮、異丙醇（IPA）中超聲清洗20分鐘，清洗后的基片用氮?dú)鈽尨蹈?，置于烘箱?nèi)烘干得到干燥清潔的ITO基底。ITO處理過程如圖1.2所示。

圖 1.1 OLED 器件制備流程

圖1.2 ITO 處理過程

使用等離子清洗機(jī)對預(yù)處理后的ITO表面進(jìn)行等離子體處理5-10分鐘，等離子體清洗機(jī)如圖1.3所示。腔體利用機(jī)械泵抽至真空狀態(tài)，通過射頻電源在一定的壓力情況下起輝產(chǎn)生高能量的無序的氧等離子體。利用這些等離子體（被電離的氣體）轟擊待清洗的表面，提高材料表面反應(yīng)活性而達(dá)到表面清潔、親水性、疏水性等表面改性的目的。通過氧等離子體清洗處理后的ITO玻璃表面，清理ITO表面殘留的雜質(zhì)；增強(qiáng)空穴注入，能夠減緩功能層與ITO表面的界面不匹配，提升ITO作為陽極時的功函數(shù)，解決制備OLED時由于勢壘較大產(chǎn)生的器件失效等問題。